| 브랜드 이름: | zmkj |
| 모델 번호: | sto 웨이퍼 |
| MOQ: | 10pcs |
| 가격: | by case |
| 포장에 대한 세부 사항: | 100 급료 청정실에 있는 단 하나 웨이퍼 포장 |
| 지불 조건: | 티 / T는, 웨스턴 유니온, MoneyGram |
10x10x0.5mmt 높은 온도 초전도 결합 기술용 스트론슘 티타나트 SrTiO3 결정 웨이퍼
고온 초전도 얇은 단결 결정 기판 10x10x0.5mmt SrTiO3
제품 이름:스트론슘 티타나트 (SrTiO)3)크리스탈 기판제품 설명:
SrTiO3페로브스카이트 결정 구조와 다양한 좋은 격자 일치 물질, 고온 초전도 산화질소 얇은 필름과 기판 재료 품질,하지만 또한 널리 특수 광학 창과 가장 높은 품질의 스프터링 목표 목재에 사용.HB 회사는 높은 품질의 SrTiO3가루를 생산하는 독립적인 생산 라인을 가지고 있습니다.SrTiO3 단일 결정은 고품질의 저비용 글로벌 단일 결정 및 SrTiO3 기판 공급자를위한 다양한 크기의 대각 기판으로 닦습니다..
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기술 매개 변수:
| 크리스탈 지향 | <100>, <110>, <111> |
| 결정 구조 | 큐브 |
| 라티스 상수 | a = 3.905Å |
| 성장 방법 | Czochralski 방법 |
| MP | 2080 °C |
| 밀도 | 5.122g/cm3 |
| 모스 강도 | 6.5 모스 |
| 열 확장 계수 | 9.4 × 10-6/ °C |
| 허용성 | ~ 300 |
| 손실 접수 |
~ 5x10-4@ 300K, ~ 3x10-4@ 77K
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| 색상 과 외모 | 투명 (때로는 가열 상태에서 약간 갈색) 짝짓기가 없습니다. |
| 화학적 안정성 | 물에 녹지 않는 물질 |
사양:
가이드
기판의 부피 닦기 <100>, <110>, <111> ± 0.5o,단일 투어 또는 더블 투어, Ra <5 Å
φ30 × 0.5mm, φ1 "× 0.5mm, 10 × 10 × 0.5mm, 10 × 5 × 0.5mm
참고: 고객의 필요와 기판의 방향에 따라 특별한 크기를 제공할 수 있습니다.
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제품 이름: |
Fe: SrTiO 3 결정 기판 | ||||||||||||||||||
| 제품 설명: | SrTiO 3 페로브스카이트 결정 구조와 다양한 종류의 좋은 격자 일치 물질, 고온 초전도 산화물 얇은 필름의 종류와 기판 재료 품질,하지만 또한 널리 특수 광학 창과 가장 높은 품질의 스프터링 목표 목재에 사용브랜치 크리스탈 회사는 높은 품질의 SrTiO3 파우더로 독립적인 생산 라인을 가지고 있습니다.SrTiO3 단일 결정은 고품질의 저비용 글로벌 단일 결정 및 SrTiO3 기판 공급자를위한 다양한 크기의 대각 기판으로 닦습니다.. | ||||||||||||||||||
| 기술 매개 변수: |
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| 사양: |
가이드 Fe: SrTiO3 (100) 10x10x0.5mm, 1sp, (Fe 도핑 0.005wt%); Fe: SrTiO3 (100) 10x5x0.5mm, 1sp, (Fe 도핑 0.01 wt%); 지름 35,20*20,10*10,5*5mmm, 두께 0.5mm,1mm |
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| 표준 포장: | 1000 청소실, 깨끗한 가방 100 |
적용:
SrTiO3는 또한 고온 초전도 결합 기술에 선호되는 단일 결정 물질입니다.
(비모르프 또는 단계적 기판을 사용하여) 및 기판을 단계화 (특정 각도에서 구부러지고 열처리).
바륨 티타나트 (SrTiO3) 는 가장 널리 사용되는 고온 초전도 단일 결정 기판 중 하나입니다.그것은 YBaCuO와 같은 높은 온도 초전도 물질과 좋은 격자 일치, 쌍둥이 구조가 없으며 뛰어난 물리적 및 기계적 특성을 가지고 있습니다. 다양한 고온 초전도 얇은 필름 (Y 시리즈, Bi 시리즈, La 시리즈 등)) 는 각종 필름 형성 기술 (마그네트론 스프터링 등) 을 사용하여 제조됩니다., 펄스 레이저 퇴적, 레이저 분자 빔 에피택시 등) 는 TCO ≥ 90°K, JCO≥106A/cm2 및 기타 지표를 얻을 수 있습니다. SrTiO3 is also the preferred single crystal material for high temperature superconducting junction technology (using bimorph or stepped substrates) and substrate stepping (beveling and heat treatment at specific angles).
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