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November 18, 2025

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#기계 팔 알루미나 세라믹 #수축컵 알루미나 세라믹 #알2O3 알루미나 세라믹

개요: 반도체 웨이퍼 공정을 위한 고순도 CVD/SSiC 실리콘 카바이드 트레이에 많은 전문가들이 주목하는 이유를 이 개요를 통해 알아보세요. 까다로운 산업 응용 분야를 위해 설계된 뛰어난 기계적 강도, 열적 안정성 및 치수 정밀도에 대해 알아보세요.

관련 제품 특징:

무게 감소 및 열 흐름 최적화를 위해 다중 구역 환형 슬롯으로 설계되었습니다.
강화된 방사형 리브 네트워크를 특징으로 하여 기계적 강도와 회전 안정성을 향상시킵니다.
고정밀 가공 표면은 반도체 응용 분야의 평탄도와 두께 균일성을 보장합니다.
중앙 집중식 장착 인터페이스는 회전 샤프트 및 자동화 시스템에 안전하게 설치할 수 있도록 합니다.
외부 링의 구조 보강은 진동 저항성과 주변 하중 안정성을 향상시킵니다.
SSiC, RBSiC, 알루미나 세라믹, 고강도 금속을 포함한 다양한 고성능 재료로 제공됩니다.
반도체 제조, LED 생산, 첨단 소재 가공, 정밀 기계에 이상적입니다.
다양한 산업적 요구에 맞춰 열 효율성, 구조적 내구성, 공정 안정성 및 맞춤 제작성을 제공합니다.

자주 묻는 질문:

SiC 세라믹 트레이란 무엇인가요?

SiC 세라믹 트레이는 반도체, LED, 광학, 진공 공정 제조 과정에서 웨이퍼 또는 기판을 지지, 적재 및 운송하기 위해 설계된 고순도 탄화규소로 제작된 정밀 캐리어입니다. 가혹한 환경에서도 뛰어난 열적 안정성, 기계적 강도 및 변형 저항성을 제공합니다.
SiC 트레이를 석영, 흑연 또는 알루미늄 트레이와 비교했을 때 어떤 장점이 있습니까?

SiC 트레이는 최대 1600-1800°C의 고온 저항, 뛰어난 열 전도성, 우수한 기계적 강도, 낮은 열팽창, 높은 내식성 및 지속적인 고강도 제조 조건에서 더 긴 수명을 포함하여 우수한 성능 이점을 제공합니다.
SiC 세라믹 트레이는 주로 어떤 용도로 사용됩니까?

SiC 트레이는 반도체 웨이퍼 취급, LPCVD, PECVD, MOCVD 열처리, 어닐링, 확산, 산화, 에피택시 공정, 사파이어 웨이퍼/광학 기판 로딩, 고진공 및 고온 환경, 정밀 CMP 또는 연마 고정 플랫폼에 널리 사용됩니다.

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