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상세 정보 |
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| 기판: | GaN ON 상태 사파이어 | 레이어: | gan 템플릿 |
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| 층 두께: | 1-5um | 도전성 타입: | N/P |
| 배향: | 0001 | 애플리케이션: | 고전력 / 고주파 전자 기기 |
| 애플리케이션 2: | 5G 톱 / 벌크 탄성파 소자 | 실리콘 두께: | 525 um/625um/725um |
| 하이 라이트: | gan 템플릿 반도체 기판,2 " 사파이어 기반을 둔 반도체 기판,간-온-식 반도체 기판 |
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제품 설명
사파이어 기판 간-온-사피파이어 GaN 위의 2 인치 4 인치 4시 2분 사파이어 기반을 둔 gan 템플릿 갈륨질화물 필름은 GaN 기판 GaN 기간을 웨이퍼로 만듭니다
1) 실온에, GaN은 물, 산과 알칼리에 녹지 않습니다.
2)매우 느린 속도로 뜨거운 알칼리 수용액에 용해됩니다.
3) 나오하, H2SO4와 H3PO4는 빨리 GaN의 품질 저하를 부식시킬 수 있고 이러한 품질 저하 GaN 결정 결점 검출을 위해 사용될 수 있습니다.
4) HCL의 GaN 또는 고온에, 수소는 불안정한 특성을 제공합니다.
5) GaN은 가장 안정적 질소하입니다.
GaN의 전기적 성질
1) GaN의 전기적 성질은 장치에 영향을 미치는 가장 중요 요소입니다.
2) 어떤 도핑 없이 GaN은 모든 경우에 엔이었고 최적 표본의 전자 농도가 4*(10^16)/c㎡에 대한 것이었습니다.
3) 일반적으로, 준비가 되어 있는 Ｐ 샘플은 대단히 보상됩니다.
GaN의 광학의 특성
1) 고 대역 폭 (2.3~6.2eV)와 와이드 밴드 갭 화합물 반도체 소재가 녹색, 푸르고 보라색이고 자외선 스펙트럼이 지금까지 다른 어떤 반도체 물질이 달성할 수 없다는 빨간 노랑을 커버할 수 있습니다.
2) 주로 푸르고 보라색 발광 장치에 사용했습니다.
갈륨-질소 재료의 특성
1) 고주파 특성이 300G Hz에 도착합니다. (Si는 10G와 비소화 갈륨이 80G라는 것 입니다)
2) 고온 성질, 매우 항공 우주에 적합한 300C에 있는 정상 조업, 군이고 다른 고온 환경.
3) 전자의 표류는 높은 포화속도, 저유전 상수 값과 좋은 열전도율을 가지고 있습니다.
4) 시와 알칼리성 저항, 부식 저항성은 가옥한 환경에서 사용될 수 있습니다.
5) 높은 전압 특성, 임팩트 저항, 높은 신뢰도.
6) 크게 강화하시오 그러면 통신 설비는 매우 열망합니다.
GaN의 주요 용법
1) 발광 다이오드, LED
2) 장-효과 트랜지스터, FET
3) 레이저 다이오드, LD
| 결정 구조 |
우르츠광 |
| 격자 상수 (A) | a=3.112, c=4.982 |
| 전도성 밴드타입 | 직접적인 밴드 갭 |
| 비중 (g/cm3) | 3.23 |
| 표면 미세 경도 (누프 테스트) | 800 |
| 융해점 (C) | 2750 (N2에서 10-100 바) |
| 열전도율 (W/m·K) | 320 |
| 대역 갭 에너지 (eV) | 6.28 |
| 전자 이동도 (V·s/cm2) | 1100 |
| 항복 전기장 (MV/cm) | 11.7 |