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광통신 시스템을 위한 실리콘 웨이퍼의 큰 두께 SiO2 열 산화물

반도체 기질
2023-10-10
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사피 광 통신 시스템용 실리콘 웨이퍼에 대 두께 열산화물 (SiO2) 일반적으로 실리콘 웨이퍼의 산화층 두께는 주로 3um 이하로 집중됩니다.그리고 고품질의 두꺼운 산화층 (3um 이상) 의 실리콘 웨이퍼를 안정적으로 생산할 수 있는 국가와 지역은 여전히 미국이 지배하고 있습니다.이 프로젝트는 필름 형성 효율성을 돌파하는 것을 목표로합니다.필름 두께 제한 ... 더 견해
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