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상세 정보 |
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| 2차 플래트 길이: | 180.0 +/- 2.0mm | 열팽창 계수: | 2.6·10-6°C -1 |
|---|---|---|---|
| 1차 플래트 길이: | 32.5 +/- 2.5mm | 산소 농도: | 1.6 X 10^18 원자/cm3 |
| 보조 평면 방향:: | 기본 평면에서 90도 | RRV: | 8%(6mm) |
| 활: | 30㎛ | 전기 저항: | 10~20오프cm |
| 하이 라이트: | 태양전지 실리콘 웨이퍼,고순도 단일 크리스탈 실리콘 웨이퍼 |
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제품 설명
실리콘 웨이퍼 전도성 태양전지 태양전지 전력 반도체 장치 고순도
제품 설명:
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속성 |
세부 사항 |
|---|---|
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기판 재료 |
단일 크리스탈 실리콘 웨이퍼 |
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기본 평면 방향 |
< 110> +/-1도 |
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2차 평면 지향 |
90°P 원형 평면 |
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직경 |
100mm +/- 0.5mm |
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산소 함량 |
1.6 × 10^18 원자/cm3 |
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2차 평면 길이 |
180.0 +/- 2.0mm |
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열 팽창 계수 |
20.6·10-6°C -1 |
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WARP |
30μm |
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방향성 |
<100><110><000> |
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RRV |
8% (6mm) |
일반적으로 Si 웨이퍼라고 불리는 실리콘 웨이퍼는 반도체 산업의 기본 재료입니다.융합 회로 (IC) 및 기타 반도체 장치의 생산에 중추적인 역할을 수행합니다.반도체 물질인 실리콘은 우수한 전기적 특성으로 선택되어 전자 부품 제조에 이상적입니다.
실리콘 웨이퍼의 제조 과정은 결정적 실리콘의 고리형 잉글릿의 성장으로 시작됩니다. 이 잉글릿은 얇게 잘라집니다.정밀 절단 기술을 사용하는 디스크 모양의 웨이퍼그 결과 된 웨이퍼는 얇고 평평한 표면을 얻기 위해 세심한 닦기 과정을 거칩니다.
실리콘 웨이퍼의 특징 중 하나는 단일 결정 구조입니다.물질 전체에 일관되고 잘 정의된 결정 격자이 단일 결정 구조는 반도체 장치의 신뢰성과 성능에 기여합니다.
실리콘 웨이퍼는 100~300mm의 지름으로 다양한 크기로 제공됩니다. 웨이퍼 크기의 선택은 산업 표준과 특정 제조 요구 사항에 따라 다릅니다.더 큰 웨이퍼는 생산 효율성과 비용 효율성을 높여줍니다..
반도체 제조 과정은 실리콘 웨이퍼에 다양한 재료를 부착하고다른 전자 부품실리콘 웨이퍼는 이러한 마이크로 전자 구조의 기판으로 복합 회로의 통합을 위한 안정적인 기초를 제공합니다.
시 웨이퍼는 마이크로프로세서, 메모리 장치, 센서 및 다양한 다른 전자 부품의 생산에 광범위한 응용을 찾습니다.더 강력한 반도체 장치가 실리콘 웨이퍼 제조 기술에서 발전을 주도했습니다..
미세 전자제품의 역할 외에도 실리콘 웨이퍼는 태양 전지판에 사용되는 태양 전지 전지의 개발에 매우 중요합니다.태양광 을 전기 로 변환 하는 실리콘 의 능력 은 재생 에너지 사용 의 핵심 물질 이 된다.
결론적으로, 실리콘 웨이퍼는 반도체 산업에 있어서 필수적인 요소이며, 통합 회로와 반도체 장치의 구성 요소로 작용합니다.그 들 의 정확 한 제조 와 뛰어난 전기적 특성 은 기술 발전 에 이바지 한다, 현대 세계를 움직이는 혁신적인 전자 제품 생산을 가능하게 합니다.
특징:
실리콘 웨이퍼는 종종 Si 웨이퍼로 표시되며 반도체 산업의 기초로 자리 잡고 있으며, 첨단 전자 장치의 제조를 추진하는 수많은 특성을 구현합니다.실리콘, 반도체 재료, 그것은 반도체 제조의 복잡한 과정에 없어서는 안 될 독특한 특성으로 선택됩니다.
실리콘 웨이퍼의 특징은 단일 결정 구조입니다.재료 전체에 균일하고 잘 조직된 격자 구조를 보장합니다.이 특이한 결정성 성질은 나중에 그 위에 건설되는 반도체 장치의 신뢰성과 성능에 매우 중요합니다.
실리콘 웨이퍼의 제조 경로는 결정적 실리콘의 원통형 잉그트를 재배하는 것으로 시작됩니다.디스크 모양의 웨이퍼그 후 고도화된 닦기 과정을 수행하여 부드럽고 평평한 표면을 얻을 수 있습니다.이러한 수준의 정확성은 후속 제조 단계의 성공에 필수적입니다..
시 웨이퍼는 다양한 크기로 특징이며, 일반적인 지름은 100~300mm입니다.웨이퍼 크기의 선택은 산업 표준과 특정 제조 요구 사항에 의해 영향을 받는다.더 큰 웨이퍼는 생산 효율성과 비용 효율성을 높이는 데 기여합니다.
실리콘의 전도성은 또 다른 중추적인 특성이다. 반도체 물질로서 실리콘의 전도성은 도핑으로 알려진 과정을 통해 조절될 수 있다.이 특징은 트랜지스터와 같은 다양한 전자 부품의 생산을 위해 전기적 특성을 조정 할 수 있습니다., 다이오드 및 통합 회로.
표면 매끄러움은 실리콘 웨이퍼의 가장 중요한 특성입니다.사진 리토그래피와 같은 정확성을 요구하는 후속 프로세스를 촉진합니다..
열 확장 계수는 실리콘 웨이퍼 생산에서 신중하게 고려됩니다. 다른 재료와 호환성을 보장하면 온도 변동 중에 스트레스와 변형이 방지됩니다.장치의 전반적인 안정성.
화학적 안정성은 실리콘 웨이퍼에 내재되어 있으며, 다른 반도체 공정에서 발생하는 다양한 화학 환경에 견딜 수 있습니다.이 화학적 탄력성은 반도체 제조에서 그들의 다재다능성을 향상시킵니다.
미세 전자제품의 역할 이외에도 실리콘 웨이퍼는 태양 전지 분야에서 응용을 찾습니다. 그들은 태양 전지의 기초가 됩니다.태양 에너지를 활용하고 전기로 변환하는 데 중추적인 역할을 수행합니다..
결론적으로, 실리콘 웨이퍼는 반도체 영역에서 정확성과 다재다능성을 상징합니다.다양한 제조 공정과의 호환성으로 인해 통합 회로 및 반도체 장치를 만드는 데 필수적입니다., 현대 시대를 정의하는 기술 풍경에 크게 기여합니다.
기술 매개 변수:
응용 프로그램:
통합 회로 (IC): Si 웨이퍼는 전자 장치의 핵심 구성 요소인 통합 회로 생산의 기본 재료입니다.
트랜지스터: Si 웨이퍼는 반도체 장치의 중요한 전자 스위치인 트랜지스터를 제조하는 데 필수적입니다.
다이오드: 다이오드의 기판으로 사용되는 Si 웨이퍼는 수정 성질을 가진 반도체 장치의 제작에 기여합니다.
마이크로프로세서: Si 웨이퍼는 마이크로프로세서, 컴퓨터 및 전자 장치의 처리 장치 제조에서 중심적인 역할을 합니다.
메모리 장치: Si 웨이퍼는 RAM 및 플래시 메모리를 포함한 다양한 메모리 장치의 생산에 사용됩니다.
태양전지: 시 웨이퍼는 태양전지의 기본 재료로 작용하여 태양광을 전기 에너지로 변환합니다.
광전자 장치: Si 웨이퍼는 빛 방출 다이오드 (LED) 및 광 탐지 장치와 같은 광전자 장치의 제조에 기여합니다.
센서: 압력, 온도 및 운동 감지 등의 응용 프로그램을 위한 센서 제조에 사용됩니다.
MEMS 장치: 시 웨이퍼는 가속계와 자이로스코프를 포함한 마이크로 전기 기계 시스템 (MEMS) 장치의 생산에 사용됩니다.
전력 장치: Si 웨이퍼는 전력 전자 및 전기 시스템에서 사용되는 전력 반도체 장치의 제조에서 역할을합니다.
라디오 주파수 (RF) 장치: Si 웨이퍼는 무선 통신 및 신호 처리용 RF 장치의 제작에 사용됩니다.
마이크로 컨트롤러: Si 웨이퍼는 다양한 전자 시스템에서 발견되는 마이크로 컨트롤러의 제조에 필수적입니다.
아날로그 회로: 전자제품에서 연속 신호를 처리하기 위한 아날로그 회로의 제조에 사용됩니다.
광섬유 부품: Si 웨이퍼는 광섬유 통신 시스템의 부품 제조에 역할을합니다.
생의학 센서: 포도당 센서 및 DNA 마이크로 어레이를 포함한 생의학 응용 용도의 센서 생산에 사용됩니다.
스마트 폰: Si 웨이퍼는 다양한 기능을 위해 스마트 폰에 사용되는 반도체 칩의 생산에 기여합니다.
자동차 전자제품: Si 웨이퍼는 엔진 제어 장치를 포함한 자동차 전자제품에 대한 반도체 구성 요소 제조에 사용됩니다.
소비자 전자제품: Si 웨이퍼는 TV, 카메라 및 오디오 장치와 같은 다양한 소비자 전자제품에 통합됩니다.
무선 통신 장치: Si 웨이퍼는 라우터와 모?? 등 무선 통신 장치에서 사용되는 칩의 생산에 필수적입니다.
디지털 신호 프로세서 (DSP): 디지털 신호 처리 애플리케이션을 위한 전문 마이크로 프로세서인 DSP의 제조에 사용됩니다.
인쇄 회로 보드 (PCB): Si 웨이퍼는 전자 회로의 척추인 PCB의 생성에 기여합니다.
전기차: Si 웨이퍼는 전기차 시스템용 반도체 부품의 생산에 사용됩니다.
기기장치: 측정 및 제어용 정밀 기기장치 제조에 사용됩니다.
위성 시스템: Si 웨이퍼는 위성 통신 및 내비게이션 시스템에서 사용되는 반도체 구성 요소에서 역할을합니다.
데이터 저장 장치: Si 웨이퍼는 하드 드라이브 및 솔리드 스테이트 드라이브와 같은 데이터 저장 장치의 제조에 사용됩니다.
전력 관리 회로: Si 웨이퍼는 전자 시스템에서 사용되는 전력 관리 회로에 매우 중요합니다.
디지털 카메라: Si 웨이퍼는 디지털 카메라의 반도체 구성 요소의 생산에 기여합니다.
로봇공학: 로봇공학 및 자동화 시스템용 반도체 부품 제조에 사용됩니다.
의료 영상 장치: Si 웨이퍼는 엑스레이 기계와 같은 의료 영상 장치에서 사용되는 반도체 구성 요소에서 역할을합니다.
산업 제어 시스템: Si 웨이퍼는 산업 제어 및 자동화 응용을위한 반도체 구성 요소에 사용됩니다.
사용자 정의:
브랜드 이름: ZMSH
모델 번호: Si 웨이퍼
원산지: 중국
오리엔테이션: <100><110><000>
두께: 525 Um +/- 20 Um (SSP)
탄소 함량: 0.5ppm
직경: 100mm +/- 0.5mm
GBIR/TTV: 5 μm
전도성:최적의 성능을 위한 높은 전도성
반도체 재료:최고 성능의 실리콘 및 다른 반도체 재료
표면 산화:정밀한 제어를 위해 고정도의 표면 산화
지원 및 서비스:
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