• SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업
  • SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업
  • SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업
  • SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업
  • SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업
SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업

제품 상세 정보:

Place of Origin: China
브랜드 이름: ZMSH

결제 및 배송 조건:

배달 시간: 2-4 주
Payment Terms: 100%T/T
최고의 가격 접촉

상세 정보

종류: 4h 등급: Production/ Research/ 가상
에지 배제: ≤50um 표면 마감: 한 개의 / 양측 사이드는 광택이 났습니다
저항률: 고/저 저항 배향: 온축/오프축
소재: 탄화규소 직경: 4인치 6인치
강조하다:

4인치 SiC 에피타시얼 웨이퍼

,

높은 저항성 SiC 에피타시얼 웨이퍼

,

6 인치 SiC 에피택셜 웨이퍼

제품 설명

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업

설명 SiC 에피타시얼 웨이퍼:

실리콘 카비드 (silicon carbide epitaxy) 는 탄소와 실리콘 원소 (도핑 요인을 제외한) 로 구성된 복합 반도체 물질이다.실리콘 카바이드 (SiC) 에피타시얼 시트 (epitaxial sheet) 는 중요한 반도체 재료로, 고전력, 고온 및 고주파 전자 장치에서 널리 사용됩니다.실리콘 카바이드에는 넓은 대역 간격이 있습니다 (약 3.0 eV), 고 온도 및 고 전압에서 우수한 성능을 발휘합니다. 우수한 열 전도성은 효과적인 열 분비를 가능하게하며 고 전력 응용 프로그램에 적합합니다.일반적인 대피성 성장 기술에는 화학 증기 퇴적 (CVD) 및 분자 빔 대피 (MBE) 이 포함됩니다.. 에피타시얼 레이어의 두께는 일반적으로 몇 미크론에서 수백 미크론까지 다양합니다. 전력 전자 장치 (MOSFET, 다이오드 등) 를 제조하는 데 사용됩니다.전기차에 널리 사용된다.또한 고온 센서와 RF 장치에도 사용됩니다. 전통적인 실리콘 재료와 비교하면SiC 장치는 높은 전압 저항과 더 나은 효율성을 가지고 있습니다.높은 온도 환경에서 안정적인 성능을 유지할 수 있습니다. 전기 자동차와 재생 에너지 시장의 성장과 함께,실리콘 카바이드 에피타시얼 시트 수요가 계속 증가하고 있습니다..

 

 

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 0

 

우리 회사는 실리콘 카비드 고전력, 강한 전류 내구성,그리고 높은 운영 안정성이러한 특성으로 인해 전력 기기 제조에 중요한 원료가 됩니다.실리콘 카비드 에피타시얼 웨이퍼는 전력 장치를 생산하는 초석으로 작용하며 장치 성능을 최적화하는 데 필수적입니다..

SiC 에피타시얼 웨이퍼의 특성:

A. 결정 구조

 

이 다형은 작은 격자 상수, 높은 전자 이동성, 포화 전자 속도 등이 있어 고주파 및 고전력 장치에 이상적입니다.4H-SiC의 대역 간격은 대략 3.26 eV, 높은 온도에서 안정적인 전기 성능을 제공합니다.

 

B. 전자 특성

 

실리콘 카바이드의 대역 간격 폭은 높은 온도와 높은 전기장 아래에서의 안정성을 결정합니다. 각각 3.26 eV 및 3.02 eV의 4H-SiC 및 6H-SiC의 넓은 대역 간격은수 백도까지의 온도에서 우수한 전기 성능을 유지할 수 있습니다., 전통적인 실리콘 (Si) 은 1.12 eV 만의 대역 폭을 가지고 있습니다.
포화 전자 속도: 실리콘 탄화물은 포화 전자 속도가 2 × 107 cm/s에 가깝고 실리콘의 두 배 정도입니다.고주파 및 고전력 애플리케이션에서의 경쟁력을 더욱 강화합니다..

 

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 1

 

 

C. 열 특성

 

실리콘 탄화물은 뛰어난 열전도성과 열 확장 계수를 가지고 있으며, 고전력 및 고온 환경에서 예외적으로 잘 작동합니다.
열팽창 계수: 실리콘 탄화재의 열팽창 계수는 실리콘과 비슷하게 4.0 × 10−6 /K 정도입니다.안정적 인 고 온도 성능은 열 사이클 과정 중 기계적 스트레스 를 줄이는데 도움이 됩니다.


D. 기계적 특성

 

실리콘 탄화물은 단단함, 경개 저항성, 우수한 화학적 안정성 및 부식 저항성으로 알려져 있습니다.
강도: 실리콘 카바이드의 모스 강도는 9입니다.5, 다이아몬드에 가깝고, 높은 마모 저항과 기계적 강도를 제공합니다.
화학적 안정성 및 부식 저항성: 고온, 압력,그리고 가혹한 화학 환경은 가혹한 조건에서 전자 장치와 센서 애플리케이션에 적합합니다..

 

SiC 에피타시얼 웨이퍼의 사양:

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 2

SiC 에피타시얼 웨이퍼의 물리적 사진:

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 3

SiC 에피타시얼 웨이퍼의 포장 사진:

 

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 4

실리콘 카바이드 (SiC) 는 다음과 같은 이유로 에피타크시가 필요합니다.

1재료 특성


실리콘 카바이드 전력 장치는 전통적인 실리콘 전력 장치와 제조 과정에 차이가 있습니다. 그들은 단일 결정 실리콘 카바이드 재료로 직접 제조 될 수 없습니다. 따라서,선도형 단일 결정 기판에 고품질의 대각층을 재배해야 합니다., 다양한 장비를 제조 할 수 있습니다.


2자료의 질 향상


실리콘 탄화물 기판에는 곡물 경계, 오차, 불순물 등과 같은 결함이있을 수 있으며 이는 장치 성능과 신뢰성에 크게 영향을 줄 수 있습니다.부피 성장은 완전한 결정 구조와 더 적은 결함으로 기판에 새로운 실리콘 탄화수소 층을 형성하는 데 도움이됩니다., 따라서 물질의 품질을 크게 향상시킵니다.


3도핑과 두께의 정확한 통제


부피 턱 성장은 부피 턱 층의 도핑 유형과 농도와 부피 턱 층의 두께를 정확하게 제어 할 수 있습니다.이것은 고성능의 실리콘 카비드 기반 장치의 제조에 매우 중요합니다.도핑 유형 및 농도, 부피층 두께 등과 같은 요소가 장치의 전기적, 열적 및 기계적 특성에 직접적으로 영향을 미치기 때문입니다.

 

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 5

 


4물질 특성 관리


기판에 SiC를 대동성적으로 성장시킴으로써 다양한 기판 유형 (예를 들어 4H-SiC, 6H-SiC 등) 에서 SiC 성장의 다른 결정 지향을 얻을 수 있습니다.각기 다른 응용 분야의 재료 특성 요구 사항을 충족시키기 위해 특정 결정 표면 방향의 SiC 크리스탈을 얻는 것.


5비용 효율성


실리콘 카바이드 성장은 느리고, 성장률은 한 달에 2cm에 불과하며, 연간 400-500개 정도를 생산할 수 있습니다.대량 생산이 대규모 생산 과정에서 이루어질 수 있습니다.이 방법은 SiC 블록을 직접 절단하는 것보다 산업 생산 필요에 더 적합합니다.

SiC 에피타시얼 웨이퍼의 응용:

실리콘 탄화화물 대축 웨이퍼는 전력 전자 장치, 전기 자동차, 재생 에너지 및 산업 전력 시스템과 같은 영역을 아우르는 광범위한 응용 프로그램을 가지고 있습니다.

 

  • 전기차 및 충전소:실리콘 카비드 전력 장치는 전기 차량 전력 시스템의 효율성과 신뢰성을 향상시켜 더 빠른 충전과 더 긴 주행 거리를 가능하게합니다.

 

  • 재생 에너지 생산 및 에너지 저장 시스템:실리콘 카바이드 장치는 태양광 인버터와 풍력 발전 시스템에서 더 높은 전력 변환 효율을 달성하여 에너지 손실을 줄입니다.

 

  • 산업용 전원 공급 장치 및 변주 주파수 드라이브:실리콘 카비드 전력 장치의 높은 효율성과 신뢰성은 산업용 전원 공급 장치 및 변주 주파수 드라이브에 널리 사용됩니다.장비의 성능 향상 및 에너지 효율성.

 

  • UV LED 및 레이저:실리콘 탄화물 재료는 효율적인 자외선 빛을 생산할 수 있으며, 살균, 수정 및 통신 분야에서 널리 사용됩니다.

 

  • 고온 광전자 탐지기:실리콘 카비드 광전자 탐지기는 고온 환경에서 높은 민감도와 안정성을 유지하며 화재 탐지 및 고온 영상 촬영에 적합합니다.

 

  • 고온 압력 센서 및 가스 센서:실리콘 카바이드 센서는 고온 및 고압 환경에서 우수한 성능을 보이며 산업 제어 및 환경 모니터링에 널리 사용됩니다.

 

  • 화학 센서 및 바이오 센서:실리콘 카바이드 재료의 염화 저항성은 화학 및 바이오 센서에서 더 긴 수명과 더 높은 안정성을 제공합니다.

 

  • 고온 전자장치:고온 환경에서 실리콘 카바이드 장치의 우수한 성능은 항공 우주 및 깊은 우물 굴착 응용 프로그램에서 가치가 있습니다.

 

  • 항공우주 및 군사용 용품:실리콘 카바이드 장치의 높은 신뢰성 및 환경 회복탄력성은 극한 조건에서 작업을 수행 할 수있는 항공 우주 및 군사 분야에서 이상적인 선택이됩니다.

SiC 에피타시얼 웨이퍼의 응용 사진:

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 6

FAQ:

1질문: SiC 대사 검사는 무엇입니까?
A:부위성 성장은 설계 된 도핑 밀도와 두께를 가진 실리콘 카바이드 (SiC) 기반 장치 구조의 활성 층을 생산하는 데 사용됩니다.

2질문: 대사검사는 어떻게 작동할까요?
A: 엽수학 (epitaxy) 은 특정 지향의 결정이 다른 결정 위에 자라는 과정이며, 그 지향은 근본적인 결정에 의해 결정됩니다.

3질문: 대사 검사는 무엇을 의미합니까?
A: 에피타시 (Epitaxy) 는 표면이 표면과 함께 등록되는 결정적 기질에 덮개층의 퇴적을 의미합니다.

제품 추천:

1 폴리 100mm SIC 에피타시얼 실리콘 카바이드 웨이퍼 인고트 성장을위한 1mm 두께

 

 

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 7

(더 보기 위해 그림 을 클릭)

 

2 SiC 기판 4H/6H-P 3C-N 145.5 mm~150.0 mm Z 등급 P 등급 D 등급

SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 8(더 보기 위해 그림 을 클릭)

 

SiC 웨이퍼 사용자 정의:

1우리는 당신의 특정 요구 사항을 충족하기 위해 SiC 기판의 크기를 사용자 정의 할 수 있습니다.

2가격은 경우에 따라 결정되며 포장 세부 사항은 귀하의 선호도에 맞게 사용자 정의 할 수 있습니다.

3배송시간은 2-4주입니다. 우리는 T/T를 통해 지불을 수락합니다.

4. 우리 공장은 고급 생산 장비와 기술 팀을 보유하고 있으며 고객의 특정 요구 사항에 따라 다양한 사양, 두께 및 SiC 웨이퍼 모양을 사용자 정의 할 수 있습니다.

이 제품에 대한 자세한 내용을 알고 싶습니다
나는 관심이있다 SiC 에피타시얼 웨이퍼 실리콘 탄화물 4H 4인치 6인치 고 저항성 반도체 산업 유형, 크기, 수량, 재료 등과 같은 자세한 내용을 보내 주시겠습니까?
감사!
답변 기다 리 겠 습 니 다.